[本文]

国名:
フランス
公開機関:
国立科学研究センター(CNRS)
元記事公開日:
2018/02/01
抄訳記事公開日:
2018/04/05
元記事の言語:
フランス語

ANR、CNRS、エコール・ポリテクニック、Total社が共同で半導体領域における産業会議プロジェクトANR PIOSTOLを開設

L’ANR, le CNRS, l’École polytechnique et Total s’associent pour créer une chaire dans le domaine des semi-conducteurs

本文:

2018年2月1日付国立科学研究センター(CNRS)等の標記報道発表の概要は以下のとおり。

国立研究機構(ANR)、CNRS、エコール・ポリテクニック(Éエole polytechnique)、トタル社(TOTAL)は、産業会議(chaire industrielle)プロジェクト”ANR PISTOL”の創設を発表した。このプロジェクトには半導体向けのプラズマによる新たな処理方式の開発を目標とする共同研究チームが結集する。このプロジェクトの研究課題は、太陽光発電、マイクロエレクトロニクス、次世代のセンサーやスクリーンの領域における新たな応用を創出することにある。

本プロジェクトではTOTAL社とANRが折半で4年間資金支援する。プロジェクトを主導するのは、物理インターフェイス・薄膜の研究室(LPICM、CNRS/エコール・ポリテクニック)のCNRS研究者、Erik Johnson 氏である。

PISTOLプロジェクトの主要な目標は半導体向けのプラズマによる新たな処理方式の開発に関するもので、プラズマベースのこの処理方式は、材料の成長制御や表面の均一性において重要な非常に高品質のエッチング向けに、産業界で広く普及している技術である。

このような状況下でPISTOLでは、表面および深部での選択性を加えることで、特殊なパターンの半導体の製造や特定の位置に特殊な処理の適用など、この方式の充実を図ることを目標としている。つまり太陽光発電、マイクロエレクトロニクス、次世代のセンサーやスクリーンの領域での応用において大きな進歩をもたらす狙いがある。

[DW編集局+JSTパリ事務所]