オランダ科学研究機構（NWO）の2013年11月6日付のニュースで、標記の記事が掲載されている。以下にその概要をまとめる。
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ナノリソグラフィー先端研究センター（ARCNL）が、2014年1月1日に始動する。ARCNLは、ASML社主導の下で創設された、官民出資による新たな研究センターである。パートナー達（ASML、FOM、オランダ科学研究機構（NWO）、アムステルダム大学、アムステルダム自由大学（VU））は基本合意に署名し、ARCNLの初代センター長には、Joost Frenken教授が任命された。

この新しい研究センターでは、ナノリソグラフィーに関する基礎研究が行われる予定である。ナノリソグラフィーは、パソコンやスマートフォン、タブレット用のコンピュータ・チップとプロセッサを製造するための最も重要な技術である。当初、センターは、極端紫外線（EUV）リソグラフィーに不可欠な物理的・化学的プロセスの研究に注力し、知識データベースを強化するとともに、ひいては世界の半導体産業のイノベーションに必須の本技術に対して、重要な貢献を果たすものと期待されている。

[JSTパリ事務所]