工業情報化部は、未来産業に関するコア技術および製品の開発、応用など進める産学官連携プロジェクトを公募した。DW編集局は公募のテーマを3回にわけて紹介している。2回目の今回は、原子スケールプロセスを取り上げる。

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　原子スケールプロセスに関する公募のテーマは以下のとおりで、配付資料には各プロジェクトの具体的な任務、目標（時期、技術レベル）が明記されている。

【コア技術】
・原子層堆積シミュレーションプラットフォーム
・多結晶材料の原子スケールプロセス
・原子レベル配列のための原子層堆積プロセス　
・ハイパワーレーザー用光学部品の原子レベル修復技術
・原子レベル金属粉末開発
・原子レベル粉体コーティング技術と装置

【製品】
・原子レベル研磨装置
・高速クラスターイオンビーム原子レベル研磨装置
・高精度X線ミラー
・植物保護剤中の金属成分の原子レベルでの低減
・高純度単結晶銅ターゲット
・高熱伝導グラフェン熱界面材料
・高密度アレイ形成技術

【公的支援】
・高分解能透過型電子顕微鏡
・高解像トポグラフィー検出装置
・原子スケールプロセス用マルチプローブシステムプラットフォーム
・分子線エピタキシー装置

【応用】
・高感度非侵襲唾液センサー
・ペロブスカイト薄膜欠陥パッシベーション技術医療検査

[DW編集局]